第五百四十三章 申请专利 (第2/2页)

许青舟放下手中的图纸，视线从三个组员身上扫过：“刚才吓我是谁的主意？”
　　
　　孙思敏低下头，马尔斯干咳一声。
　　
　　卡森顿时讪笑起来：“老板，我们这不是想给您一个惊喜吗况且，您上次也吓我们一跳。”
　　
　　“比起给我惊喜，你现在更应该把论文写好。三位，这个月结束前，我希望邮箱里有你们论文的初稿，明白我的意思吧？”
　　
　　“噢，老板，我的论文才写了一半。”
　　
　　马尔斯悲催地喊着。
　　
　　许青舟耸耸肩：“这不是我需要关心的问题。”
　　
　　马尔斯生无可恋：“但离下个月不到20天了。”
　　
　　“那你还不赶快？”
　　
　　“.”
　　
　　三个人顿时清醒了，顿时感到压力山大，就连卡森都没有臭屁，赶紧坐到自己位置上开始奋斗。
　　
　　许青舟摇摇头，小小的“报复”了一把，就很快乐。
　　
　　当然，现在确实该给这些家伙压压担子了，实验都快做完了，一篇论文都还没出来，丢人。
　　
　　他把数据看了一遍，调整实验参数，吩咐好卡森明天继续重做样品，他则直接去了图书馆。
　　
　　实验稳中有进，是到最关键步骤的时候了——专利申请。
　　
　　整个实验的关键技术框架已经固定，不会有大改动，剩下无非就是实验数据的变动，这点影响不大，并且可以在确定优先权日过后逐渐完善。
　　
　　申请材料里边，首先需要撰写说明书，明确技术领域，技术背景，最佳实施例，发明内容和实施方案。
　　
　　最重要的就是后面两条。
　　
　　需要详细说明技术细节，也就是许青舟加入的那些黑科技，前驱体上，传统的Sn(CH)改用Sn(NEt)、H等离子体增强反应、量子级界面工程NbSn薄膜表面外延生长拓扑绝缘体BiSe.最后到YO纳米掺杂和量子点精准掺杂。
　　
　　至于用途，核聚变反应堆磁体系统，高能粒子加速器，量子计算与低温电子器件，医疗成像设备.怎么说呢，他的这个产品，直接是五边形战士。
　　
　　另外还需要附上工艺流程图、薄膜截面TEM图、Jc-磁场曲线图这些东西。
　　
　　许青舟花了四天把专利材料申请好，而后直接找了间专利注册的事务所，打算先锁定优先权日。
　　
　　宋瑶其实也能做，但这东西比较麻烦，权利要求书，USPTO检查文件格式、附图清晰度等等都有相应的要求。
　　
　　4月14日，许青舟见到了专利代理人莉丝·安德森，莫顿教授推荐的人选。
　　
　　一位非常热心的老太太，和莫顿教授的性格完全相反。
　　
　　这类专利的申请，审查时常在6个月，1年，甚至于2年都很正常，但超导薄膜领域稍好，不似传统行业，拥有大量注水专利，需要耗费大量审查时间。
　　
　　可超导材料属于复杂技术，仍然需要经过严格的审查，为了缩短时间，许青舟忍痛支付了4000美元的加急费。
　　
　　事务所的效率很高，4月16日在确立优先权日。
　　
　　接下来，审查员评估新颖性、创造性，发出审查意见（OfficeAction），通常需1-3轮答复。
　　
　　许青舟也准备给通用电气的扎卡里亚打个电话，同步一下进度，就当给这位豪赌者一点惊喜。
　　
　　当然，还有另外一层意思。
　　
　　兄弟，该准备钱了。