第五百六十七章 你相信科研梦想吗 (第1/2页)

周六，又是一个大晴天，阳光透过树叶，铺洒在咖啡馆外的草坪上。
　　
　　许青舟见到了中大的郑旭教授，看起来三十多岁的模样，模样清隽，一看就知道是那种喜欢埋头实验，不善言辞的学者。
　　
　　“郑教授，请坐。”
　　
　　“您好，许教授。”
　　
　　郑旭坐下的同时也在观察许青舟，虽然在电视上看到过好几次，但首次见面，依旧会有点吃惊。
　　
　　年轻得可怕。
　　
　　年轻归年轻，这位许教授身上有一种不属于这个年龄的从容和沉稳。
　　
　　“郑教授，你曾经在美国SLAC国家加速器实验室工作过五年，我看了你在这个期间的论文，可以说非常精彩。同时，我还看了你去年的磁电物性分析与器件实验，差距很大，可以说是失败的实验。”
　　
　　许青舟翻看着手中的资料，沉声说道：“首先是材料稳定性问题，BiFeO薄膜在多次电场循环后出现氧空位迁移，导致磁电耦合效率下降30%。其次是工艺兼容性限制，超薄多铁薄膜的均匀性与CMOS工艺兼容性不足，良品率仅65%。”
　　
　　其实，许青舟超导薄膜上的专利技术就能用到郑旭的实验里，例如引用梯度掺杂技术，即La掺杂BiFeO，就可以抑制氧空位迁移。
　　
　　保守估计，至少能让材料性能提升30%。
　　
　　“是的。”
　　
　　郑旭露出了落寞的表情，点头承认，懊恼地说：“实验的结果和我预想的相去甚远，甚至漏洞百出。”
　　
　　“您方便说说原因？”许青舟点点头。
　　
　　郑旭无奈地说道：“院里另外一个项目的经费不足，最后，我的项目经费被砍掉了20%，周期缩短了三分之一，有些改进方案还没来得及实施。”
　　
　　许青舟笑着问：“介意我看看改进方案吗？”
　　
　　“当然没问题。”郑旭把电脑打开，很快就找到曾经的方案，郑重地说道：“这是两个主要方案，请许教授多多指教。”
　　
　　许青舟把两个方案都大致扫了一眼。
　　
　　第一种，是引入梯度掺杂技术。
　　
　　思路和许青舟他们的相似，姑且算得上是超导薄膜实验中的简化版。
　　
　　第二个方案基于工艺革新，想要开发原子层沉积（ALD）技术提升薄膜均匀性。
　　
　　“嗯，这两套方案做下来，你们样品的性能还能提升20%左右。就是.有些地方仍然可以继续改进。”
　　
　　郑旭心中感叹许青舟果然是专业的，听到后面一句，眼前亮了亮，立刻拿出手稿，一副要验算的模样：“您说。”
　　
　　“改进的地方有机会再说，咱们聊聊别的。”
　　
　　瞧着对方狂热的样子，许青舟有些无奈，心说：得，这位郑教授还是个科学狂人。
　　
　　郑旭也发现自己跑题了，干咳一声，不好意思地收起手稿。
　　
　　许青舟把资料还给郑旭，还是问道：“你在中大有自己的项目组，为什么会想来这个刚成立的研究所？”
　　
　　郑旭苦笑着说道：“我说因为科研梦想，你相信吗？”
　　
　　“为什么不相信？”许青舟反问。
　　
　　郑旭愣了愣，年轻时候提科研梦，可能会有人夸赞你有志向，但他这个年纪别人更可能会让他别太天真。
　　
　　理想主义没用，要着眼现实。
　　
　　

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